Shanghai Micro Electronics Equipment
 | |
| Państwo | |
|---|---|
| Siedziba | |
| Data powstania |
2002 |
| Forma prawna |
prywatne (częściowo finansowane państwowo) |
| Udziałowcy |
SASAC (32%) |
| Strona internetowa | |
Shanghai Micro Electronics Equipment (Group) Co., Ltd. (SMEE; chiń. 上海微电子装备 (集团)股份有限公司) – przedsiębiorstwo zajmujące się produkcją sprzętu półprzewodnikowego, z siedzibą w Szanghaju w Chinach. Firma zajmuje się badaniami, rozwojem, produkcją i sprzedażą skanerów litograficznych i narzędzi inspekcyjnych dla przemysłu produkcji półprzewodników[1].
Historia firmy
SMEE zostało założone w 2002 roku przez He Rongminga, byłego wiceprezesa Shanghai Electric. Pierwotnie był to projekt badawczy z zakresu technologii maszyn litograficznych w ramach Programu 863. Po kilku latach badań firma SMEE wprowadziła na rynek pierwszą krajową maszynę litograficzną przeznaczoną do użytku komercyjnego[2][3].
Produkty
Litografia EUV
W marcu 2023 SMEE złożyło wniosek patentowy na metodę generowania promieniowania EUV do użycia w litografii EUV do produkcji zaawansowanych układów scalonych[4]. Na rok 2024, maszyny EUV są produkowane wyłącznie przez holenderskie ASML[5]. Niektórzy obserwatorzy sugerują, że w Chinach mogą być prowadzone nawet trzy odrębne inicjatywy, w które zaangażowane są instytucje prywatne, państwowe i edukacyjne inne niż SMEE, mające na celu opracowanie i dostarczenie prototypu chińskiego skanera litograficznego EUV w ciągu najbliższych kilku lat[6]. Kluczowym czynnikiem rozwoju zaawansowanego chińskiego sprzętu litograficznego wydaje się być wspierany przez rząd wysiłek na rzecz wzmocnienia współpracy publiczno-prywatnej w celu zwiększenia innowacyjności[7].
Sankcje Stanów Zjednoczonych
W grudniu 2022 roku Departament Handlu Stanów Zjednoczonych dodał SMEE do Entity List w ramach wysiłków Stanów Zjednoczonych mających na celu utrudnienie rozwoju zaawansowanego przemysłu półprzewodnikowego w Chinach[8].
Zobacz też
Przypisy
- ↑ 上海微电子装备(集团)股份有限公司 [online], www.smee.com.cn [dostęp 2025-05-28] [zarchiwizowane z adresu 2025-03-19].
- ↑ Deep Dive: SMEE and China's Attempt to Replace ASML Tools [online], EqualOcean [dostęp 2025-05-28] (ang.).
- ↑ Factbox: Chinese chipmaking equipment manufacturers filling void left by U.S. export restrictions, „Reuters” [dostęp 2025-05-28] [zarchiwizowane z adresu 2023-03-30] (ang.).
- ↑ 王伟伟 i inni, 极紫外辐射发生装置及光刻设备, patent CN 118625604A, China National Intellectual Property Administration, 10 września 2024 [dostęp 2025-06-07] (chiń.), nr wniosku: CN202310226636.7; data złożenia wniosku: 2023.03.09.
- ↑ Anton Shilov, China's SMEE files patent for an EUV chipmaking tool — tool aims to break the shackles of ASML export restrictions [online], Tom's Hardware, 13 września 2024 [dostęp 2025-05-28] (ang.).
- ↑ Paul Triolo, A New Era for the Chinese Semiconductor Industry: Beijing Responds to Export Controls [online], American Affairs Journal, 20 lutego 2024 [dostęp 2025-05-28] (ang.).
- ↑ Paul Triolo, China’s Semiconductor Industry Advances despite U.S. Export Controls [online], 7 marca 2024 [dostęp 2025-05-28] (ang.).
- ↑ Anton Shilov, Chinese company claims chipmaking tool breakthrough — announces 28nm-capable litho tool [online], Tom's Hardware, 20 grudnia 2023 [dostęp 2025-05-28] (ang.).